PLAN11出口自沖洗 介質(zhì)由泵的出口經(jīng)管線(xiàn)進(jìn)入機械密封實(shí)施沖洗。 適用情況： 1.清潔介質(zhì)(介質(zhì)本身須清潔) 2.介質(zhì)溫度不高于110℃ 3.泵進(jìn)出口間的壓差不能大于10Bar 大于10Bar．則需設節流閥) PLAN13入口自沖洗 介質(zhì)由入口經(jīng)管線(xiàn)進(jìn)入機封實(shí)現液體的循環(huán)流動(dòng) 適用情況： 1.泵進(jìn)出口壓力差大于10Bar 2.清潔介質(zhì) 3.介質(zhì)溫度不高于110℃ PLAN21出口冷卻自沖洗 介質(zhì)由泵的出口經(jīng)冷卻器降溫后，再進(jìn)入機械密封，實(shí)現對密封的冷卻. 適用情況： 1.介質(zhì)溫度高于110℃ 2.清潔介質(zhì) PLAN52不加壓冷卻方式 利用壓力小于工藝流體壓力但不低于大氣壓力的阻隔流體，注入密封室中。由于隔流體壓力小于工藝流體壓力，少量工藝流體泄漏至阻隔流體中，被阻隔流體出密封室，到密封系統或放空系統中進(jìn)行處理，從而避免工藝流體的直接排放大氣和環(huán)境的污染。 技術(shù)要求: 1.低壓阻隔流體防止滲漏，但阻隔液壓力不得低于O．7公斤／厘米 2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質(zhì)相溶 3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同 適應場(chǎng)合: 低沸點(diǎn)、易汽化的介質(zhì) 危險品 不允許介質(zhì)被污染的制藥行業(yè) PLAN53加壓冷卻方式 利用壓力大于工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由于阻隔流體壓力大于工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的泄漏，從而有效地防止工藝流對大氣和環(huán)境的污染。 技術(shù)要求: 1.阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1—2公斤／厘米2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質(zhì)相溶 3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同 適應場(chǎng)合: 易結晶或固化的介質(zhì) 易聚合介質(zhì) 常溫含顆粒的介質(zhì) PLAN54加壓冷卻方式 利用加壓泵給阻隔流體加壓，壓力比工藝流體壓高1—2公斤／厘米2一方面，提高阻隔流體的循環(huán)速度，加快對密封面的冷卻；另一方面，阻止工藝流體通過(guò)內側密封向阻隔流體系統的泄漏，避免工藝流體對大氣和環(huán)境的污染。 技術(shù)要求: 1.阻隔流體壓力比密封腔內工藝流體壓力高1—2公斤／厘米 2.阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質(zhì)相溶 3.阻隔流體的流向應與軸的旋向相同 適應場(chǎng)合: 高溫含顆粒的介質(zhì) 熱流體 低溫介質(zhì)